挪威科技大学罗四海AM：无掩膜蒸镀法制备柔性透明导电电极
2023/7/5 11:29:17 阅读：28 发布者：
传统制备电极阵列需要使用掩膜或光刻工艺来选择性地进行镀膜，从而增加了工艺流程。为此，挪威科技大学纳米中心John de Mello/罗四海团队报道了一种新型无掩膜蒸镀工艺用于制备柔性透明导电电极。该方法采用氧气等离子体选择性刻蚀一种已商业化的聚合物基底，再通过无掩膜蒸镀一层12 纳米银制备超光滑透明导电电极，并成功应用于制备柔性有机发光二极管。近日以题为“Flexible Transparent Electrodes Formed from Template-Patterned Thin-Film Silver”的论文发表在领域内著名期刊Advanced Materials上。
文章要点：
1.通过对一种商业化聚合物基地采用氧气等离子体选择性刻蚀，从而在聚合物表面形成形貌不同的区域，即在被刻蚀区域形成柱状结构，未刻蚀区域保持聚合物初始光滑表面。然后通过无掩膜蒸镀一层12纳米银，从而形成具有透明度和导电性差异的银电极阵列。
2.该无掩膜工艺可制备具有高制备精度的纳米银电极阵列，其导电与绝缘界面长度小于10 纳米（与采用光刻技术相当），远小于采用传统掩膜蒸镀法的几百纳米界面长度，从而有利于实现高精度、高集成度电极阵列的制备。
3. 所制备的12纳米银薄膜具有高透明度且无雾效，同时具有低表面电阻（约为16欧姆/平方），并且在弯曲时表现出极佳的弹性（曲率半径达1.5毫米）；通过在银层上沉积一层纳米厚度的氧化铝防反射层，可以增加透射率（在550纳米处可达到80%），因此成为柔性透明电极的理想选择。
原文链接：
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adma.202300058
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