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期刊封面

Plasma Chemistry and Plasma Processing《等离子体化学与等离子体工艺》

双月刊 - 美国

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所属分区：3区

是否TOP：非TOP期刊

是否综述：非综述期刊

是否OA：OA混合

国际标准刊号：ISSN 0272-4324；EISSN 1572-8986

期刊语言：英语

出版区域：美国

定价：0

出版地址：SPRINGER , ONE NEW YORK PLAZA, SUITE 4600 , NEW YORK, United States, NY, 10004

期刊邮箱：

投稿网址：https://submission.springernature.com/new-submission/11090/3

期刊网址： https://link.springer.com/journal/11090

出版商网址： https://link.springer.com

Plasma Chemistry and Plasma Processing《等离子体化学与等离子体工艺》（官网投稿）

简介

期刊简称PLASMA CHEM PLASMA P
参考译名《等离子体化学与等离子体工艺》
核心类别 SCIE核心, EI 外国期刊, 目次收录（维普）, 知网外文库,外文期刊,
IF影响因子
自引率
主要研究方向工程技术-ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工；PHYSICS, APPLIED物理：应用；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流体与等离子体。范围涵盖从非热等离子体到热等离子体的各种加工用等离子体，既包括基础等离子体研究，也包括具体的等离子体应用研究。这些应用包括但不限于：等离子体催化、环境处理（包括液体与气体处理）、等离子体的生物应用（包括等离子体医学与农业）、表面改性与沉积、粉末及纳米结构合成、能源应用（包括等离子体燃烧与重整）、资源回收、等离子体与电化学的耦合，以及等离子体刻蚀。展开更多

Plasma Chemistry and Plasma Processing《等离子体化学与等离子体工艺》（双月刊）. Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry&nb...[显示全部]

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