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Journal of Applied Crystallography《应用结晶学杂志》 （官网投稿）

简介
  • 期刊简称J APPL CRYSTALLOGR
  • 参考译名《应用结晶学杂志》
  • 核心类别 高质量科技期刊（T2-2025）, SCIE核心, EI 外国期刊, 目次收录（维普）, 知网外文库,外文期刊,
  • IF影响因子
  • 自引率
  • 主要研究方向材料科学-CRYSTALLOGRAPHY 晶体学；CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY 化学综合。关于晶体与非晶材料（包括固体、液体、气体、单分子、表面及界面）结构及动态特性的先进实验与计算方法的原创研究。欢迎采用光子、电子、中子及其他探针在材料科学、化学、物理学、工程学与生命科学领域开展的研究。期刊设有专门板块关注晶体学教育议题。鼓励投稿涵盖时间分辨技术、激光应用、新仪器研发及新兴技术方向的研究。展开更多

主要研究方向：

等待设置主要研究方向
材料科学-CRYSTALLOGRAPHY 晶体学；CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY 化学综合。关于晶体与非晶材料（包括固体、液体、气体、单分子、表面及界面）结构及动态特性的先进实验与计算方法的原创研究。欢迎采用光子、电子、中子及其他探针在材料科学、化学、物理学、工程学与生命科学领域开展的研究。期刊设有专门板块关注晶体学教育议题。鼓励投稿涵盖时间分辨技术、激光应用、新仪器研发及新兴技术方向的研究。

Journal of Applied Crystallography《应用结晶学杂志》（双月刊）. Articles published in Journal of Applied Crystallography focus on these methods and their&...[显示全部]
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1、投稿方式：在线投稿。

2、期刊网址：https://journals.iucr.org/j/

3、投稿网址：http://submission.iucr.org/submit/j

4、官网邮箱：andrew.allen@nist.gov（主编）

（更多编辑邮箱见期刊官网信息）

5、出刊日期：双月刊，逢双月出版。

2025年12月12日星期五


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